Hafium chlorid / hfc4 / Cas 13499-05-3
Produktnumm: Hafium Chlorid
Cas: 13499-05-3
MF: CL4HF
Mw: 320.3
Eincs: 236-826-5
Schmelzen Punkt: 319 ° C
Kachpunkt: 315.47 ° C (Schätzung)
Dicht: 1.89 g / cm3
Dampdrock: 1 mm Hg (190 ° C)
SurluBlity: Soulble a Methanol an Aceton.
form: Pudder
Faarf: wäiss
Hafium (iv) Chloridass eng wichteg Tëschestatiounsstëmmung vun der Produktioun vum Hafium Metal. Et gëtt och benotzt fir vill Ofstand ze virzebestallt ze ginn.
Am Feld vu Materialienwëssenschaften,Hafium (iv) Chloridass e Schlësselprüftermaterial an der Virbereedung vum Hafnium baséiert Allolys.HafiumAusgefall Lauten ginn wäit an der waarmer Autoritéiten vun der Aerospace Motoren benotzt, wéi d'Turbinebladbicher a Verbrennungsversuergung Resistenz an der Corros Resistenzversuergung. Si kënne mechanesch Stress a chemeschen Erosioun an extremer héijen Temperaturerumenter, déi déi zouverlässeg Operatioun vu Fligere sinn.
Elektronesch Industrie: Et ass e wichtege Rawmaterial fir héich dighektesch konstante Gate Material. Mat der kontinuéierlecher Entwécklung vu Sememineffikateursapparat Richtung Minisatioun, d'Performance Ufuerderunge fir Paartmaterial gëtt ëmmer méi streiwe. Promidater trëttegt mat Streckgeraschidelle fir datt déi elektresch Auslänner vun den Transfréiert net méi héich Kompetenzen erreechen, hëlleft Chips-Formalprodukter.
Keramesch Fabrikatioun: benotzt fir speziell Keamiken ze preparéieren, mat Rassium Element ze preparéieren, deen eenzegens mechanikalesch Kraaft, Häertegkeet, Häertersécherheetszirkulärverspressand- an Héichzentrum Praktesch Impornerieverspressance. Si hu exzellent Leeschtung zu Schneid-Tools, Schimmel, an Industrioslagen, verlängert säi Servain d'Liewen a verbessert d'Produktiounsfaktizienz.
Hafnium Oxide Precursor: HFCL₄ gëtt allgemeng als Viraussetzungen, déi ofnium Oxid benotzt hunn (HFOID), wat eng Vielfalt vun der Uwendungen inklusiv héich-K Deimektrish
Katalyesch geet op organeschen Symblahes: Hariumiumchidenz kënne wéi iwwerraschescht organesch observéiert ginn, besonnesch am Kadernelce Prozess.
Chemesch Damplaatzung (CVD): Den HFCLID gëtt am chemeschen Dampen, déi an der Depotinium mat der Fiberce vun der Microlectronics an dënne Filmer Technologie sinn.
Nuklear Applicatiounen: Wéinst dem Neutronen absorbéiert Eegeschaften, Hafium a seng Verbindungen (inklusiv Hafniumchacture a Kontrollräfte a Kontrollrälter.
Tëschefuer an Entwécklung: Hafiumräft gëtt och a produzéierte Fans-- d'Gensminatiounen benotzt, besonnesch an de Fouer Dateinnen a hir Eegeschafte.
An engem ventiléierten an dréchenen Lager gelagert.
Hafium Chlorid (HFCL₄) soll virgeschloen ginn fir seng Stabilitéit ze halen an d'Degradatioun ze vermeiden. Hei sinn e puer Richtlinnen fir Hahrniumchlorid ze stockéieren:
Container: Store Hafnumchorid A Séissegkeetenscontrakter aus passender Materialien, sou eng gewësse Plastik, fir d'Feuchtigkeit ze verhënneren. Vermeit d'Metallbehälter ze benotzen als Hafium Chlorid reagéiert mat Metaller.
Ëmfeld: Store Container an enger cooler, dréchen Plaz ewech vun direktem Sonneliicht an Hëtzt. Well den Hafium Chlorid ass hygroskopesch, et ass wichteg Belaaschtung fir d'Feuchtigkeit ze minimiséieren.
Zurert Atmosphär: Wa méiglech, stamt Hornium Chloriden ënner enger Inert Atmosphär (wéi Stitrogen oder Argon) fir Hydrolyse a Reaktioun an der Loft ze vermeiden.
Label: Kloer Label Container mam Chemikal Numm, Gefor-Informatioun, an Empfangs Datum a Sécherheet a Sécherheet.
Sécherheet Viraussetzungen: Gitt w.e.g. all relevant geféierlech geféierlech Matière Sécherheet Richtlinnen a Reglementer beim Späicheren an Ëmgéigend Hafnium Chlorid, dorënner d'Benotzung vu passenden perséinleche personaliséierten Ausrüstung (PPE).

Jo, haftium Chlorid (HFCL₄) gëtt als geféierlech ugesinn. Hei sinn e puer Schlësselpunkten iwwer seng Kräften:
1. Corrosive: Hafnium Chlorid ass korrosiv zu der Haut, Aen an Atmungstrakt. Kontakt kann Reizung a Verbrennunge verursaachen.
2. Toxizitéit: Inhalatioun vum Hafnium Chlorid Stëbs oder Damp kann schiedlech sinn a kann otpiratoresch Probleemer verursaachen. Gitt sécher all Stëbs oder Damp ze otmen.
3. Reaktivitéit: Haftbarradgeschicht hunn halskroskopesch a kënne mat Meemart an der Loft reagéieren zu Loftverschmacken auszeschaffen, déi esou geféierlech.
4. Ëmweltkoppell: Hafiumchlorid ass schiedlech fir equatic Liewen a soll mat der Ëmfro mat der Ëmweltkontaminatioun beherrschen.
Wéinst dëse Geforen, déi richteg Sécherheetsgrousse gi wéi duerno Dofenschlaieren a bräichendemütchten Ausräfteichten (pampen mat entspriechender prälschte Beschäftegung (Post) schaffen a punkto pippetéierte Beräicher (PIP).

Verpackung Ufuerderunge:Den Hafland Tetrachlotoren muss an Actia verschafft gi mat gudder Séture, allgemeng Drumben oder Glasfillen, fir sécherzestellen, fir sécherzestellen. KLARK CHAMPHOMTANCTEIALT MABELS SINN ZE KONSIVERSISCHT AN DEPERKAGE SINN VUN DER SPILLENDIFUNG doriwwer Säit als "Hafland:" Mordroswaysnummer.
Transportbedingunge:Transport Gefierer musse gutt Ventilatioun Ariichtungen hunn fir d'Akkumulatioun vu gëfteg Gase nom Leckage ze vermeiden. Fir héich Temperaturen, a Reen Schëffer këmmeren, dass Dir Fantier an de Kompetenzen, féiert op Fossier verbonnen. Kontaktéiert Mat Reveniëkënnen, wat d'Horrinos de Grondsaache vum Hamnariumclidid ze produzéieren, wat kann offrozen. Wärend eisem Transport ass et recommandéiert ofzegaarteg Blumpen a Schwongungen ze reduzéieren.
